Simulation numérique d’un essai de nano-indentation sur un matériau de critère de résistance elliptique axisymétrique - École des Ponts ParisTech Access content directly
Conference Papers Year : 2015

Simulation numérique d’un essai de nano-indentation sur un matériau de critère de résistance elliptique axisymétrique

Luc Dormieux
  • Function : Author
  • PersonId : 1029036
Denis Garnier
  • Function : Author
  • PersonId : 849038
Camille Chateau

Abstract

Cette contribution décrit un procédé itératif à l’aide de modules sécants (compressibilité, cisaillement) afin de déterminer la charge limite d’une structure constituée d’un matériau quelconque respectant un critère de résistance elliptique. La simulation numérique d’un essai d’indentation est mise en oeuvre pour l’indenteur Berkovich. Dans le cadre de l’homogénéisation, plusieurs auteurs ont établi, à l’échelle micrométrique, un domaine de résistance macroscopique sous la forme d’un critère elliptique pour différents matériaux. La détermination des propriétés mécaniques locales des phases constitutives du matériau sollicité avec la technique de nano-indentation rencontre souvent des difficultés à l’échelle très petite (nanométrique). On peut s’affranchir de ces difficultés en confrontant les résultats de la simulation numérique présentée ci-dessus avec ceux des essais expérimentaux à une échelle micrométrique, suivi d’une approche micro-macro convenable.
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Dates and versions

hal-01629620 , version 1 (06-11-2017)

Identifiers

  • HAL Id : hal-01629620 , version 1

Cite

Dac Loi Nguyen, Luc Dormieux, Denis Garnier, Camille Chateau. Simulation numérique d’un essai de nano-indentation sur un matériau de critère de résistance elliptique axisymétrique. The 3rd International Conference CIGOS 2015 - Innovations in construction, 2015, Paris, France. ⟨hal-01629620⟩
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